半導體分析業者汎銓今（31）日以每股100元上市掛牌，最後以124.50元收盤，首日開盤漲幅達17%。
汎銓2021年營收達約14.7億元，年增32%，稅後淨利2.5億元，年增58.7%，EPS為6.21元；2022年上半年營收約7.95億元，也較往年同期成長了19%，上半年累計稅後淨利1億元，年增21.8%，EPS為2.44元。
儘管汎銓的業績表現強勁，但2005年成立的汎銓，並非一開始就抓準研發的步調。在公司成立後的8、9年間，當時半導體製造業正在追求20奈米，汎銓董事長柳紀綸回憶，當時汎銓時常被客戶抱怨「品質不如人」。
所謂材料分析的品質不如人是什麼呢？這得先瞭解什麼是材料分析：以電子顯微鏡、在電子束的照射下，查看客戶送來的樣品的結構與成分。客戶再透過汎銓提供的樣品圖像，回頭改良製程。
而隨著製程不斷演進，實驗的樣品也越來越輕薄。在分析的過程中，奈米級的切片樣品很容易在電子束照射下坍縮變形。由於電子束帶有能量、熱，柳紀綸形容，「越要聚焦、拍清楚，越是在傷害樣品。」
若是樣品在分析過程中變形，便無法成為客戶改良製程的依據。小小的偏誤，若經過一道一道工序地疊加，最後良率就會出問題。
柳紀綸回憶，由於當時客戶不只下單材料分析給汎銓一家公司，汎銓曾被質疑，為何樣品拍起來的高度、深度，不如客戶預設的樣子。
因此，當時客戶常在比較汎銓與其他同業的檢測成果後，對汎銓說，「結果就是這樣，那你要不要跟（這個價錢）？」這項結果導致該公司在議價時居於劣勢。
2014年，承受著客戶質疑的汎銓，積極轉型的第一步，是陳榮欽從產線上找出一名具備研發實力的博士，對他說，「你不要做量產了，專注做研發吧！」公司更多聘了數位工程師，補齊因職位調度導置的產能缺口。
這個嘗試得到了回報。兩人的研發團隊，降低了樣品在電子束照射下會出現的電流干擾問題，而這個稱為「低介電係數材料」的開發，也成為後來汎銓三大專利：「低溫原子層鍍膜技術」、「導電膠保護膜」與「原子層導電膜」的基礎。
營運長廖永順說，過往產線、研發尚未分離時，研發人員忙裡忙外、被產線交期追著跑，對客戶的提議或是抱怨，只會覺得「很煩！」但是當研發人員可以專心做研究時，廖永順笑說，研發人員都變得「見獵心喜」，因為每次抱怨都是進步的契機。
在2014年之後，研發團隊專注與國際學研單位合作、研發先進工法，讓汎銓在往後的8、9年逐漸擺脫被客戶質疑品質的窘境，開始有餘裕布局專利，逐漸在材料分析市場展穩腳步。
汎銓因此正式成立研發部門，至今研發部門的人數也從當年的兩人，成長到近20人的規模。而這個營運策略的改變，不只聚焦了公司內的研發能量，更讓研發人才的心態得到了正面的鼓勵。
根據調研機構IC Insights研究顯示，2021年全球半導體公司研發支出達714億美元，年增13%，預估2022年至2026年每年保持年複合成長率(CAGR)5.5%，推升全球市場規模進一步達1,086億美元。柳紀綸說，現階段汎銓已有200多家客戶，將積極拓展海外市場。
